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题目内容
（请给出正确答案）
A.上芯顶针痕迹检查频次为1次/批
B.在100X显微镜下检查顶针痕迹时，如果顶针痕迹不清晰，未造成明显的不良，则判定为合格
C.MOSFET产品在100X显微镜下检查时，如有顶针印记，则判断为不良
D.在监控顶针痕迹时，必须使用设备的pickdie功能从晶圆上吸取芯片做样品监控，不允许使用镊子从兰膜上直接夹取
答案
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第4题
A.用钻机取样，芯样直径为100mm或150mm，芯样高度不宜小于50mm
B.芯样清洁后晾干，以便可以观察出芯样侧立面透层油的下渗情况
C.用钢板尺或量角器将芯样顶面圆周平均分成8等分，分别量测圆周上各等分点处透层油渗透的深度
D.去掉渗透深度测试值中1个最小值，计算其他渗透深度测试值的算术平均值，作为单个测点的渗透深度结果
第5题
通常模具顶针端面应与型芯面平齐，不能高出或低于型芯表面()较好;
A0.1mm
B0.2mm
C0.5mm
D0.8mm
第7题
A.指在痕迹物证周围用醒目的物品做出标记例如：粉笔标画，以物圈围，放置物证标识牌
B.粉笔标画、以物圈围，其范围都要适当大于痕迹或物证
C.标志物不可以与被标志客体相接触
D.物证标识牌可以直接放置在痕迹或者物证上面
第8题
A.省局加快构建全省税务系统科学规范高效的执法风险事前预警体系，落实总局执法质量智能监控要求，推广应用总局内嵌执法风险防范措施的信息系统，实现事前预警、事中阻断、事后追责，强化对权力运行的制约和监督
B.强化内控内生化，推进流程规范化设置和信息系统优化调整，通过税务执法流程的规范设置，实现事前有管控、过程有痕迹、事后可追溯
C.各级税务机关要认真落实《关于进一步规范风险管理防范税务执法风险的意见》要求，加强税务监控和税务执法过程管控，切实防范和化解执法不公、权益侵害和权力寻租等问题
D.开展政策落实、风险应对和税务执法专项督察，强化重大税务违法案件“双随机，一公开”，对税务机关和税务人员违反有关法律法规规定、因疏于监管造成重大损失的，依法严肃追究责任
E.2021年12月底前，省市县局开展一次政策落实、风险应对和税务执法专项督察
第9题
A.新进、维修、变化后或停用3个月以上的大型关键设备，在投入使用前必须确认是否符合预期用途或使用要求
B.使用多台设备检测同一个项目，应对设备之间的性能和差异进行比对，每年至少进行一次
C.需设置参数的自动化设备由使用部门对关键参数进行定期核查，对使用权限进行控制
D.所有测量和监控设备，必须进行定期校准
